Унікальна технологія пробопідготовки для РЕМ (патент JEOL) - Cross Section Polisher
Прилад для одержання полірованих зрізів.

• одержання поперечних зрізів зразків під кутом 90 градусів до поверхні зразка
• просте одержання чистих зрізів практично будь-яких матеріалів і їхніх сполучень
• збереження внутрішньої структури зразків
• завдяки використанню пучка іонів аргону ушкодження зразка набагато менше, ніж при використанні FIB
•  простота у використанні, не вимагає досвіду роботи для одержання чудового результату

Зневоднювання з послідовним заміщенням t-бутиловым спиртом визнано найпростішим способом приготування біологічних зразків методом заморожування - висушування, який не призводить до усадки й деформації. Переваги цього методу повністю використовуються в установці JFD-310 для препарування з високою ефективністю й відтворюваністю. 

Зразки, заморожені й зафіксовані за допомогою приладів для кріофіксації, таких, як EM-PACT і EM-CPC, проходять обробку в замороженому стані в рідині (наприклад, ацетон або метиловий спирт). Потім ці зразки піддаються низькотемпературному просоченню з подальшим потвердженням ультрафіолетовим випромінюванням або при кімнатній температурі.
Температурний діапазон: від 140 °С до +65 °С
Час встановлення таймера: від 0 до 999.9 годин.

 Використовується переважно для підготовки ПЕМ/РЕМ зразків.
Слугує, головним чином, для надання гидрофільності (підвищеної адгезії) різним поверхням, включаючи поверхні підтримуючих плівок для ПЕМ зразків, лез алмазних ножів і підтримуючих штифтів РЕМ зразків.

Прилад для препарування зразків, що використовується в просвічуючій електронній мікроскопії (ПЕМ). Дозволяє утоньшувати плівки для ПЕМ шляхом травлення їхньої поверхні пучком іонів аргону. Невеликий розмір, мала вага й настільний дизайн дозволяють розміщати даний пристрій у будь-якому місці.

Механічний шліфувальний прилад для попередньої обробки зразків у просвічуючій електронній мікроскопії. Відшліфовує акуратні напівсферичні ямки в центрі дискових заготовок. Оскільки мінімальна товщина після шліфування становить від 5 до 10 мікронів, а краї при цьому залишаються товстими, істотно зменшується час заключної обробки зразків за допомогою хімічного або іонного травлення.

Дозволяє проводити травлення й напилювання в одній вакуумній камері. Наступні особливості істотно поліпшують характеристики установки:

• зменшення або відсутність забруднення зразка;
• зменшення часу обробки зразка.  

Панель керування також поліпшена, вона стала більш компактною і легкою в роботі. Ця сучасна система особливо ефективна для обробки зразків напівпровідників.