Global Partner Tokyo Boeki - микроскопы (электронный, тунельный, оптический), спектрометры (фотоэлектронный, ЯМР, ЭПР), сварочный аппарат, электронная микроскопия   поиск     Украинский Русский Английский
ГлавнаяО компанииПродукты и услугиКонтакты

Микроскопы NIKON промышленного назначения

Микроскоп NIKON EPIPHOT TME300U / TME200

Микроскоп металлографический инвертированный


Микроскоп металлографический инвертированный-Микроскоп NIKON EPIPHOT TME300U / TME200

Инвертированные микроскопы в сравнении с прямыми (образец под объективом) имеют следующие преимущества:

  • чтобы поменять образец, не нужно двигать предпетный столик;
  • на таких приборах можно изучать образцы любых размеров

Микроскоп TME300U — надежный и стабильный как скала инвертированный прибор, отвечающий самым взыскательным требованиям исследователя. Прибор использует прекрасную бесконечную оптику Nikon CF, предоставляя непревзойденный комфорт в работе. Эта модель реализует полный спектр методов микрофотографирования, обеспеченный первоклассаными оптическими характеристиками.

«Младший брат» TME200 — более компактный прибор, сравнимый по основным характеристикам с прибором Epiphot TME300U. Эта модель лучше всего подходит для наблюдения и вывода изображения на ТВ-монитор. Хотя, микрофотографирование — также одна из многочисленных возможностей этого прибора.

Основные характеристики обеих моделей приведены в таблице:

Модель TME300U TME200
Фокусировка

Диапазон: 4 мм
Грубая: 4 мм/оборот
Точная: 0.1 мм/оборот
Минимальный отсчет: 1 мкм

Распределение света Окуляры:боковой порт = 100:0/20:80 

Окуляры: фото = 100:0/20:80

35 мм:фотопластина = 100:0/0:100

-
Промежуточное увеличение трансфокация 0.8-2x
(фиксация в положениях 1.0x, 1.25x. 1.5x)
-
Визирная шкала масштабная линейка для объективов 5/10/20/50/100х
гранулометрические сетки (аустенит; No. 1-8;
Сетка: 0.5м)
Объективная револьверная насадка На пять объективов; светло/темнопольная; универсальная
Окулярная трубка фиксированная бинокулярная бинокулярная или тринокулярная
Столик прямоугольный, диапазон перемещений 70×70 мм 
Фотомикрография встроенная, с электронным управлением: 35 мм/фотопластины серия FX-III через тринокуляр
Окуляры CFWN 10x (20 мм)
CFWN 10xEPM (20 ии) — с фотомаской  
Объективы CF IC EPI Plan, CF IC EPI E Plan, CF IC BD E Plan,
CF IC BD Plan, CF IC BD Plan DIC
увеличения от 1.5x до 200x
Контраст светлое/темное поле, поляризационный, дифференциальный интерференционный Номарского, эпи-флюоресценция
Габариты и масса 361 × 763 х 450 мм
39 кг 
361 × 736 х 436 мм
31 кг 
 
Более подробная информация о приборах Epiphot 300U/200 в формате Adobe Acrobat (PDF) (1.8 Мб)

Здесь Вы можете посмотреть информацию о приборе на сайте Nikon Япония.

В начало страницы

Микроскоп NIKON ECLIPSE LV100D

Микроскоп материаловедческий (новейший)


Микроскоп материаловедческий (новейший)-Микроскоп NIKON ECLIPSE LV100D
Микроскоп Nikon Eclipse LV100 D – исследовательский микроскоп промышленного назначения.
Его основные преимущества:
  • универсальность;
  • улучшенные оптические характеристики;
  • компактный модульный дизайн;
  • возможность изучения «толстых» образцов, толщиной до 82 мм;
  • широкий выбор прецизионных предметных столиков различных размеров;
  • новый 50Вт галогеновый осветитель, который на 40% ярче осветителя с мощностью галогеновой лампы 100Вт;
  • три типа револьверных объективных насадок;
  • пять типов конденсоров.

Оптическая схема приборов предусматривает оптимальную интеграцию различных камер, производства Nikon.

Специально для приборов LV100 на основе стекла «eco-glass» Nikon разработал новейшие модели светосильных объективов серии CFI60:

Модель Увеличение Числовая апертура Рабочий отрезок, мм
CFI Plan Epi 2.5x 0.075 8.8
CFI LU Plan Fluor Epi 5x 0.15 23.5
10x 0.30 17.5
20x 0.45 4.5
50x 0.80 1.0
100x 0.90 1.0
CFI LU Plan Epi ELWD 20x 0.40 13.0
50x 0.55 10.1
100x 0.80 3.5
CFI L Plan Epi SLWD 20x 0.35 24.0
50x 0.45 17.0
100x 0.70 6.5
CFI LU Plan Apo EPI 100x 0.95 0.4
150x 0.95 0. 3
CFI L Plan Apo EPI WI 150x 1.25 0.25
CFI LU Plan Fluor BD 5x 0.15 18. 0
10x 0.30 15.0
20x 0.45 4.5
50x 0.80 1.0
100x 0.90 1.0
CFI LU Plan Fluor BD ELWD 20x 0.40 13.0
50x 0.55 9.8
100x 0.80 3.5
CFI LU Plan Apo BD 100x 0.90 0.51
150x 0.90 0.4

Также разработана новая серия объективов с коррекцией покровного стекла, что также позволяет их использовать в полупроводниковой промышленности для контроля жидкокристаллических панелей:
Модель Увеличение Числовая апертура Рабочий отрезок, мм Толщина корректируемого стекла, мм
CFI L Plan EPI CR 20x 0.45 10.9-10.0 0-1.2 мм
CFI L Plan EPI CR 50x 0 .7 3.9-3.0 0-1.2 мм
CFI L Plan EPI CRA 100x 0.85 1.2-0.85 0-0.7 мм
CFI L Plan EPI CRB 100x 0.85 1.3-0.95 0.6-1.3 мм

Режимы работы прибора LV100D:
  • светлое поле
  • темное поле
  • дифференциальный интерференционный контраст Номарского
  • поляризационный контраст
  • эпи-флюоресценция
  • режим проходящего света
  • интерферометрическое измерение высоты микрообъектов

Компьютерное моделирование позволило разработать станину микроскопов с увеличенной жесткостью и увеличенной термо- и вибростабильностью. По-сравнению с предыдущими моделями уровень подвижности станины уменьшился более чем в 2 раза.

 
Более подробная информация о приборе LV100D в формате Adobe Acrobat (PDF) (1.76 Мб)

Здесь Вы можете посмотреть информацию о приборе на сайте Nikon Япония.

В начало страницы

Перейти:
 вверх